基于SLM的多縫隙內腔結構成形關鍵技術研究

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基于SLM的多縫隙內腔結構成形關鍵技術研究
論文目錄
 
摘要第1-5頁
abstract第5頁
注釋表第12-13頁
第一章 緒論第13-21頁
    1.1 引言第13-14頁
    1.2 選區激光熔化成形技術研究現狀第14-20頁
        1.2.1 SLM技術國內外研究現狀第15-18頁
        1.2.2 分層算法研究現狀第18-19頁
        1.2.3 光斑半徑補償策略研究現狀第19-20頁
    1.3 本文研究內容與意義第20-21頁
第二章 STL文件模型預處理及典型分層算法第21-40頁
    2.1 引言第21頁
    2.2 STL文件結構特點第21-25頁
        2.2.1 STL文件的數據結構組成第21-24頁
        2.2.2 STL文件存在的問題第24-25頁
    2.3 STL文件預處理第25-33頁
        2.3.1 STL文件讀取及顯示第25-27頁
        2.3.2 冗余數據處理第27-30頁
        2.3.3 模型分層方向確定第30-33頁
    2.4 四種典型的分層算法第33-38頁
        2.4.1 直接分層(DS)第33-35頁
        2.4.2 統一分層(US)第35-36頁
        2.4.3 基于有限切削深度值的自適應分層(ACH)第36-37頁
        2.4.4 保留彎曲性的自適應分層(AS)第37-38頁
    2.5 本章小結第38-40頁
第三章 多內腔特征結構的自適應分層算法第40-55頁
    3.1 引言第40-41頁
    3.2 針對多縫隙內腔結構的優化算法第41-47頁
        3.2.1 基于相對面積偏差比值的自適應分層算法第41-44頁
        3.2.2 自適應分層算法優化第44-47頁
    3.3 截面輪廓的獲取及修正第47-52頁
        3.3.1 交叉點跟蹤及交點標記第47-49頁
        3.3.2 輪廓線提取第49-51頁
        3.3.3 最近距離算法修正輪廓第51-52頁
    3.4 自適應分層算法實現第52-54頁
        3.4.1 軟件系統組成及功能第52-53頁
        3.4.2 特征結構的自適應分層結果第53-54頁
    3.5 本章小結第51-55頁
第四章 變層厚光斑半徑補償策略第55-66頁
    4.1 引言第55頁
    4.2 光斑半徑補償及自交環重構第55-62頁
        4.2.1 光斑補償原理及偏移輪廓計算第55-58頁
        4.2.2 自交環交點求取及重構第58-62頁
    4.3 變光斑半徑補償策略第62-65頁
        4.3.1 激光光源能量分布第62-64頁
        4.3.2 變層厚分層下的光斑半徑補償策略第64-65頁
    4.4 本章小結第65-66頁
第五章 多縫隙內腔結構件SLM成形第66-72頁
    5.1 試驗設備與材料選取第66-68頁
    5.2 試驗技術方案第68-69頁
    5.3 試驗結果及分析第69-71頁
    5.4 本章小結第71-72頁
第六章 總結與展望第72-74頁
    6.1 總結第72-73頁
    6.2 展望第73-74頁
參考文獻第74-78頁
致謝第78-79頁
攻讀碩士學位期間所獲得的科研成果第79頁

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